一国企已开始量产自主研发的DUV光刻机制造设备长鑫存储或成为首批客户之一

7月27日，据TheInformation援引知情人士消息，位于上海的某国资背景企业已开始量产自主研发的DUV（深紫外）光刻机制造设备，这是中国半导体产业推进国产化替代的重要进展。据悉，该企业计划于2026年生产约5台DUV光刻机，并在2027年扩大至约20台。虽然与荷兰光刻机巨头ASML的产能仍存在差距（ASML去年交付131套浸没式DUV光刻系统），但国产DUV设备突破量产意味着中国芯片制造供应链进一步向自主可控迈进。消息人士称，这批国产DUV光刻机计划交付给中国主要芯片制造商，包括中芯国际、华虹半导体以及存储芯片厂商长鑫存储。其中，长鑫存储作为中国DRAM产业代表企业，预计将成为国产先进半导体制造设备的重要应用方。若国产DUV设备能够在长鑫存储等厂商产线中实现稳定运行，将进一步降低中国存储芯片产业对海外关键设备的依赖。截至发文，御渡半导体、中芯国际、华虹和长鑫行储均未回应置评。